反渗透纯水设备中RO脱盐膜的使用方法

　　由于诸多工厂在生产中对用水的需求，水处理行业在市场上迅速发展起来了。RO纯水机亦可称为反渗透纯水机。反渗透纯水设备主要是利用反渗透膜进行水脱盐处理。日常使用此纯水设备时，会遇到许多种情况 ，该如何何养呢?当装置产水量下降时，则水中盐的透过量会相反的增加一倍。那么，该如何去熟练掌握反渗透纯水机的使用技巧呢??以下简单列出几种方法：

　　使用化学药剂法清洗纯水机RO膜

　　1.加酶洗涤剂，用加酶洗涤剂处理膜，对有机物污染，特别是对蛋白质，油类等有机物污染特别有效，若在50℃-60℃下清洗效果更好，一般的在运行10天或半个月后用1%的加酶洗涤剂在低压下对膜进行一次清洗， 由于所用加酶洗涤剂浓度较低，所以要求浸渍时间长一些。

　　柠檬酸溶液，在高压或低压下，用1%-2%的柠檬酸水溶液对膜进行连续或循环冲洗，这种方法对Fe(OH)3污染有很好的清洗效果。

　　2.浓盐水，对肢体污染严惩的膜采用浓盐水清洗是有效的，这是由于高浓度盐水能减弱胶体间的相互作用，促进胶体凝聚形成胶团。

　　3.双氧水溶液，例如将0.5L,30%的H2O2用12L去离子水稀释，然后清洗膜表面，这种方法对有机物污染特别有效。

　　4.水溶性乳化液，用于清洗被油和氧化铁污染的膜十分有效，一般清洗30-60分钟.

　　工业超纯水设备工艺流程有以下几种，具体采用哪种得根据企业的具体要求及现有的条件了。

　　超纯水设备工艺流程

　　第一种采用较简便的工艺：前端砂碳预处理—然后经过一级RO机过滤—加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-出水端杀菌设备-精密过滤器-工厂使用水点(用水点);第二种经混床过滤的工艺：进水预处理-RO纯水机-水箱-阴阳离子分床-阴阳混床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-至用水点;

　　第三种采用EDI工艺：前端预处理-反渗透过滤机-中间水箱-水泵-EDI超纯水过滤装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-不锈钢或UPVC精密过滤器-用水点采水;为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统等。由于提出需要使用超纯水设备的用户在生产线或生产中对水质的要求非常高，要想经过层层过滤出的水能达到标准的要求必须加大力度减少水流经各级所造成的污染指数。

　　一般进水水质达到国家自来水标准的水经过砂碳过滤器、反渗透纯水系统再经EDI装置过滤后会达到用户的需求。通常超纯水的水质电阻率在12个兆至18个兆之间。

　　EDI膜的主要技术特点与性能指标

　　EDI膜堆是由夹在两个电极之间一定对数的单元组成。在每个单元内有两类不同的室：待除盐的淡水室和收集所除去杂质离子的浓水室。淡水室中用混匀的阳、阴离子交换树脂填满，这些树脂位于两个膜之间：只允许阳离子透过的阳离子交换膜及只允许阴离子透过的阴 离子交换膜。

　　树脂床利用加在室两端的直流电进行连续地再生，电压使进水中的水分子分解成H+及OH-，水中的这些离子受相应电极的吸引，穿过阳、阴离子交换树脂向所对应膜的方向迁移，当这些离子透过交换膜进入浓室后，H+和OH-结合成水。这种H+和OH-的产生及迁移正是树脂得以实现连续再生的机理。

　　当进水中的Na+及Cl-等杂质离子吸咐到相应的离子交换树脂上时，这些杂质离子就会发生象普通混床内一样的离子交换反应，并相应地置换出H+及OH-。一旦在离子交换树脂内的杂质离子也加入到H+及OH-向交换膜方向的迁移，这些离子将连续地穿过树脂直至透过交换膜而进入浓水室。这些杂质离子由于相邻隔室交换膜的阻挡作用而不能向对应电极的方向进一步地迁移，因此杂质离子得以集中到浓水室中，然后可将这种含有杂质离子的浓水排出膜堆。

　　电去离子集成膜过程高纯水制造系统

　　电去离子(EDI)是在电渗析器的淡化室中填充离子交换树脂，借助外直流电场的作用使离子选择 性地定向迁移,同时利用水的解离就地再生混床树脂,从而使离子选择性迁移、 深度除盐、树脂电化学再生三个过程相伴发生，相当于连续获得再生的混床离 子交换柱，可高效不间断地生产高纯水。

　　系统工艺流程

　　自来水-->预处理-->活性炭-->保安过滤-->反渗透-->电去离子

　　主要技术特点与性能指标

　　(1) 脱盐率大于99.9%，效率远远高于两级反渗透和单纯的离子交换。

　　(2) 较传统的离子交换法脱盐节约树脂95%以上

　　(3) 离子交换树脂不需使用酸碱再生，节约大量酸碱和清洗用水，降低劳动 强度。

　　(4) 清洁生产，无废水处理问题，利于环保。

　　(5) 自动化程度高，易维护，可设计成完善的膜技术高纯水生产线。

　　(6) 产水电阻率15-18MΩ·cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，彻底无菌。

　　(7) 占地面积小，单一系统连续运转，不需建设备用系统。